VHP凈化循環(huán)的4個階段，去污過程可分為三個階段，準(zhǔn)備階段、去污階段和驗(yàn)證階段：
1.先決條件
通過控制溫度、相對濕度和空氣質(zhì)量來制備要凈化的區(qū)域或材料。該階段確保達(dá)到過氧化氫的最佳濃度，以實(shí)現(xiàn)有效的凈化。
2.除濕
擴(kuò)散階段-將H2O2引入待污染區(qū)域或材料上。這可以使用蒸汽或霧化的H2O2來完成。凈化階段的相應(yīng)濃度和持續(xù)時間取決于存在的污染物的類型和數(shù)量，以及被凈化區(qū)域或材料的大小和復(fù)雜性。
3.注射：去污
擴(kuò)散階段-將H2O2引入待污染區(qū)域或材料上。這可以使用蒸汽或霧化的H2O2來完成。凈化階段的相應(yīng)濃度和持續(xù)時間取決于存在的污染物的類型和數(shù)量，以及被凈化區(qū)域或材料的大小和復(fù)雜性。
4.后處理
現(xiàn)在對該區(qū)域或材料進(jìn)行通風(fēng)或催化過氧化氫，以將過氧化氫的濃度降低到安全水平。這主要是通過引入新鮮空氣、使用空氣過濾器或催化H2O2來實(shí)現(xiàn)的。該階段的持續(xù)時間取決于引入的過氧化氫的濃度以及將空氣調(diào)節(jié)回安全水平的過程。
驗(yàn)證凈化過程的有效性：
如果一個過程具有高度的可重復(fù)性和嚴(yán)格的控制，您可以使用特定的濕度和溫度測量來評估H2O2凈化循環(huán)的成功。這是因?yàn)橛闷腍2O2注入H2O2會影響房間的濕度和溫度。在凈化周期之前和之后對這些參數(shù)的準(zhǔn)確測量可以幫助確定是否達(dá)到了所需的水平。
通常，工藝也會使用合適的H2O2測量裝置直接測量空氣中的H2O2濃度。然而，必須注意的是，測量空氣中的H2O2濃度可能不足以評估H2O2過程的成功，因?yàn)榭赡苓€有其他因素影響成功，如房間大小、消毒持續(xù)時間和使用的H2O2濃度。
如何監(jiān)測濕度和溫度：
測量濕度和溫度很重要，因?yàn)檫^氧化氫是一種反應(yīng)性化學(xué)物質(zhì)，在某些條件下會分解或降解。高溫和高濕度會加速過氧化氫的分解，導(dǎo)致效力和有效性的喪失。此外，過氧化氫可以與其他物質(zhì)反應(yīng)，如金屬。在水分存在的情況下，會形成可能有害的副產(chǎn)品。
因此，控制過氧化氫儲存和處理過程中的溫度和濕度以確保其穩(wěn)定性和有效性至關(guān)重要。除濕機(jī)或空調(diào)可以控制濕度，溫度可以通過制冷或供暖系統(tǒng)來控制。定期監(jiān)測溫度和濕度水平有助于防止過氧化氫的降解，確保凈化水平的質(zhì)量和安全。
過氧化氫環(huán)境中的Rotronic濕度傳感器：
過氧化氫可能會降解或破壞敏感材料，如濕度傳感器中使用的聚合物，并可能影響傳感器和電子設(shè)備的精度和壽命。
PST提供了一種特殊的傳感器，由于其額外的保護(hù)籠，對過氧化氫具有更強(qiáng)的抵抗力：Rotronic HYGROMER®HH-1-SK。該傳感器已在上述條件下工作了10多年。一些最大的過氧化氫凈化設(shè)備供應(yīng)商已與PST合作，并依靠我們的傳感器技術(shù)確保其解決方案有效運(yùn)行。
最后，重要的是要記住，必須為實(shí)驗(yàn)室、隔離室和手套箱仔細(xì)選擇濕度傳感器，這些地方通常使用過氧化氫進(jìn)行消毒。雖然可能不參與消毒過程，但這些控制或監(jiān)測傳感器將繼續(xù)使用。如果您的傳感器不是專門為容忍反復(fù)暴露于過氧化氫而設(shè)計(jì)的，它們可能會迅速失效或提供不準(zhǔn)確的測量結(jié)果
聯(lián)系無錫徽科特討論您的應(yīng)用，我們很樂意為您推薦合適的產(chǎn)品。
在我們的聲明中了解更多關(guān)于羅卓尼克過氧化氫探頭工作原理的信息，以及滅菌過程的描述：
羅卓尼克Rotronic HYGROMER®HH-1-SK電容式濕度傳感器在含有過氧化氫和冷凝的環(huán)境中無法提供準(zhǔn)確的水濕度相關(guān)測量結(jié)果。在這種情況下，存在冷凝的測量信號其次受到H2O2濃度的影響。
濕度傳感器本身是耐過氧化氫的，這意味著傳感器在過氧化氫冷凝階段之前和之后都能提供準(zhǔn)確的測量結(jié)果）。暴露于H2O2結(jié)束后，再次顯示正確的測量值。
盡管羅卓尼克Rotronic HYGROMER®HH-1-SK電容式濕度傳感器能夠耐受H2O2，但仍建議盡可能縮短傳感器元件上的冷凝階段。根據(jù)應(yīng)用，永九移除探頭上的保護(hù)過濾器并將探頭放置在改善氣流的位置可能是有益的。
情況描述：過氧化氫滅菌過程和相對濕度測量
對濕度探頭和測試結(jié)果的評估表明，在滅菌室中某些工藝序列的注射階段，快速引入產(chǎn)生的過氧化氫氣體-水蒸氣混合物會導(dǎo)致濕度探頭上的冷凝。
這是由于在H2O2蒸發(fā)之前，探頭暴露在約22°C的正常環(huán)境溫度下造成的。注射階段通常非常快，范圍約為28-30°C。由于注入了過氧化氫，相對濕度迅速上升到大于90%RH的值。探頭的熱質(zhì)量導(dǎo)致探頭溫度延遲升高。在相對濕度非常高的情況下，這意味著露點(diǎn)和探頭溫度之間的差異很小。如果露點(diǎn)溫度達(dá)到探頭溫度，則所有低于露點(diǎn)溫度的表面都會發(fā)生冷凝。
這意味著受影響區(qū)域會形成一層微滴（含H2O2的水）。濕度傳感器及其電氣連接也會受到影響。然后，探頭顯示一個測量信號，該信號由實(shí)際濕度信號和其他影響（如冷凝膜情況下的爬行電流（取決于涂層密度和電導(dǎo)率）、傳感器表面上的單個液滴、冷凝情況下原電池形成的交叉影響（電化學(xué)反應(yīng)）、之前的污染（之前充電循環(huán)的蒸發(fā)殘留物）組成。
關(guān)于注射和暴露階段的測量信號，還應(yīng)注意的是，H2O2在較高溫度下和冷凝的情況下會迅速分解。這種分解反應(yīng)產(chǎn)生額外的水，當(dāng)蒸發(fā)或直接在氣相中產(chǎn)生時，會導(dǎo)致額外的水分含量。這會導(dǎo)致相對濕度值高于預(yù)期。保持該冷凝階段，直到水膜在物理上可以再次干燥。在干燥狀態(tài)和通風(fēng)階段，濕度傳感器再次正確檢測氣相中的水蒸氣量（根據(jù)WMO標(biāo)準(zhǔn)化為相對濕度）。
濃度和污染物：
